プラズマクリーナーの具体的な特徴とは

プラズマクリーナーはドライ洗浄の一種であるプラズマ技術によって、半導体や電子デバイスなどの生産性や品質を向上させるための装置です。この装置には2種類の処理方式があり、RIEモードはアルゴン原子を使いDPモードは酸素分子を使います。前者は大気圧から10Pa以下まで減圧したチャンバーにアルゴン原子を導入し、約20Paで高周波電力を電極間に印加します。後者は大気圧から10Pa以下に減圧したチャンバーに酸素分子を導入し、80Paから130Paで高周波電力を電極間に印加してプラズマを発生させます。

RIEモードでは減圧されたチャンバー内のアルゴン原子が高周波電力によってイオンと電子になりますが、電子は軽いためイオンよりも早く下部電極に到達します。下部電極ではマイナスの電圧とイオンシースが生じ、プラス電荷のイオンはマイナス電圧の下部電極に引き寄せられます。加速領域であるイオンシースによってスピードが増したアルゴンイオンは、サンプルに衝突し汚れである無機物と有機物を弾き飛ばします。DPモードでは、減圧されたチャンバー内の酸素分子が高周波電力によって電離されます。

酸素原子がサンプル上の有機化合物と化学反応を起こして二酸化炭素や水分子になり、真空ポンプで排気される仕組みです。プラズマクリーナーには、処理方式の違いによりRIEモードとDPモードの2種類が存在します。いずれのタイプも微細な汚れを除去する機能がありますが、DPモードは化学反応を利用するため有機物のみが処理対象です。有機物と無機物の両方を処理したいのであれば、RIEモードのプラズマクリーナーを選ぶとよいでしょう。

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