微細な汚れを除去するプラズマクリーナー

薬液を使用しないドライ方式による洗浄装置は半導体など精密機器の製造に使われており、ドライ洗浄装置と呼ばれます。プラズマクリーナーはドライ洗浄装置の一種で、アルゴン原子や酸素分子を使ってプラズマを生じさせ微細な汚れを除去します。半導体などの製造工程では汚染や副生成物が発生しており、プラズマクリーナーによってそれらを除去すれば製品の品質や信頼性が高まります。薬液を使用するウェット洗浄装置では使用後の薬液を洗い流すためのリンスや乾燥の工程が必要ですが、プラズマクリーナーのようなドライ洗浄装置では不要です。

ドライ洗浄装置はウェット洗浄装置と比べて工程が少ないため、製品の生産性も向上します。プラズマクリーナーは、処理方式の違いによってRIEモードとDPモードの2種類があります。アルゴン原子を使うのがRIEモードで、高周波電力によってアルゴンイオンと電子が生じます。アルゴンイオンは加速領域であるイオンシースでスピードを増し、サンプル自表面の無機物や有機物に衝突して弾き飛ばします。

加速されたアルゴンイオンを物理的に衝突させ、汚れを除去する点にRIEモードの特徴があります。酸素分子を使うDPモードでは、高周波電力によって生じた酸素原子がサンプル表面の有機化合物と化学反応を起こして二酸化炭素と水分子が生じます。二酸化炭素と水分子は真空ポンプを使って外部に排出される仕組みです。このタイプのプラズマクリーナーは化学反応を利用する点に特徴があり、有機物による汚れを効果的に除去できます。

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