プラズマクリーナーによる効果的な洗浄について

プラズマクリーナーはアルゴン原子や酸素分子を使ってプラズマを発生させ、微細な汚れを取り除く装置です。半導体や電子デバイス、レンズや医療器具などを製造する際にはプラズマクリーナーが不可欠な存在となっています。この装置は半導体などの生産性や品質を大幅に向上させることを目的に作られており、完全ドライ方式なので薬液を使用しません。半導体などの製造工程では汚染や副生成物が発生しますが、プラズマクリーナーはそれらを効果的に除去し表面を洗浄します。

プラズマクリーナーにはアルゴン原子を使うRIEモードと、酸素分子を使うDPモードという2種類の処理方式があります。RIEモードは10Pa以下に減圧したチャンバーにアルゴン原子を導入し、DPモードは酸素分子を導入します。前者は約20Pa、後者は80Paから130Paの高周波電力を電極間に印加しプラズマを発生させます。RIEモードでは、チャンバー内のアルゴン原子が電離されてアルゴンイオンと電子になります。

イオンよりも電子の方が軽いので早く下部電極に達し、下部電極ではマイナス電圧とイオンシースが生じます。アルゴンイオンはイオンシースで加速され、サンプル表面に付着した有機物や無機物に衝突して弾き飛ばします。DPモードではチャンバー内の酸素分子が電離されて酸素原子となり、サンプル表面に付着している有機化合物と化学反応を起こして二酸化炭素や水になります。二酸化炭素や水は真空ポンプで外部に排出されるので、サンプル表面の汚れが取り除かれます。

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