プラズマ洗浄装置の仕組み

プラズマ洗浄装置とは、文字通りプラズマを利用した洗浄装置です。物質は温度が上昇すると固体から液体、液体から気体へと変化していきます。気体の状態になった時に連続的なエネルギーをそこに加えると、分子が電離して陽イオンと電子に分かれて運動している状態になります。この状態をプラズマと言い、気体に続く第四の状態と呼ばれています。

プラズマ洗浄装置は電離によって、不対電子ができて酸素ラジカルになった状態とプラズマを使用することで洗浄を行います。プラズマによって形成された荷電粒子を含むエネルギーが基盤表面上の有機汚染物質の結合を分解して、酸素ラジカルが有機汚染物質と化学的に結合することで、二酸化炭素や水などの物質に分解反応させて除去するという仕組みです。また、プラズマ洗浄装置には効果も期待できます。荷電粒子を含むエネルギーが基盤表面の密着性を高めたり、酸素ラジカルが基盤方面に衝突することで表面層の分子鎖を切断して、新たな官能基を生成する効果があります。

近年では、スマートフォンやウェアラブ端末が普及するに従って、それに内蔵する半導体や電子部品の小型化や集積化が進んでいるのが現状です。そんな機能を実現するためのチップは、どんどん小さく複雑になっているためチップを洗浄するためにプラズマ洗浄装置も高い機能を求められています。様々な形状の基盤を多数処理ができるもの、処理モードが複数あり基盤の種類に応じた適切な処理を行えるものなどを選べます。プラズマ洗浄装置のことならこちら

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