プラズマ装置にはいろいろな効果があります

プラズマ装置にはいくつか種類があり、一般的に低圧プラズマや大気圧プラズマなどがあります。大気圧プラズマの場合、大気圧環境下においてプラズマを発生させる装置です。真空環境などを必要としなかったり、低圧プラズマよりイオン密度が高いなど特徴があります。電極間の距離を短くしなければならず、ワークとの照射距離において制限が出てしまうことがあるでしょう。

プラズマを発生させるには、希ガスや酸素といったガスが必要です。低圧プラズマの場合、真空環境は必要になります。容器内の分子密度は低いため、ガスなどを導入しなくてもプラズマを発生することが可能です。電極間の距離をある程度離したとしても、プラズマがワークに照射できるのでワーク形状に依存しないような処理を実現することができます。

プラズマ装置にはさまざまな効果があり、洗浄があげられます。プラズマにより形成された荷電粒子を含んでいるエネルギーは、基板表面上の誘起汚染物質結合などを分解することが可能です。形成された酸素ラジカルは有機汚染物質や化学的に結合していき、二酸化炭素や水といった揮発性物質に分解反応しながら除去していきます。アンカー効果もあり、プラズマにより形成された荷電粒子などのエネルギーは、基板表面を粗すことによって基板表面の密着性も高めることが可能です。

プラズマ装置は表面改質にも効果があり、プラズマから形成された酸素ラジカルは基板表面に衝突し、表面層の分子鎖を切断していきます。切断された分子と反応し、新しい官能基を生成する仕組みです。プラズマ装置のことならこちら

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