プラズマ装置の処理方式と特徴について

プラズマ装置はプラズマクリーナーとも呼ばれており、半導体など精密機器の表面に付着した細かな汚れを取り除くことができます。この装置はドライ洗浄を行うため、ウェット洗浄のように薬液を使いません。汚れを取り除いた後で薬液をリンスで洗い流し、乾燥させる工程が不要です。プラズマ装置は品質だけでなく生産性も大幅に向上させることができるため、精密機器の製造現場では欠かすことができない存在となっています。

この装置にはRIEモードとDPモードという異なる2種類の処理方式があります。プラズマ装置は減圧されたチャンバー内で高周波電力によって電極間に印加し、プラズマを発生させます。物質にエネルギーを与え続けると固体から液体、気体へと変化し最終的にプラズマになります。プラズマとは分子がプラス電荷のイオンとマイナス電荷の電子に分かれた状態のことで、物質の第4の状態とも呼ばれています。

RIEモードではアルゴン原子が電離されてアルゴンイオンと電子が生じ、DPモードでは酸素分子が酸素原子に分かれます。前者はイオンシースで加速されたアルゴンイオンが、製品の表面に付着している有機物や無機物に衝突します。後者は酸素原子が製品の表面に付着している有機物と化学反応を起こし、水分子と二酸化炭素が生じます。RIEモードは有機物や無機物を物理的に取り除くのが特徴で、DPモードは化学反応を利用して有機物を取り除くという特徴があります。

半導体などの製造工程では様々な汚れが生じており、必要に応じて異なる処理方式のプラズマ装置を使い分けます。

シェアする

  • このエントリーをはてなブックマークに追加

フォローする